• 1. Нанесение карбонила вольфрама методом атомно-слоевого осаждения позволяет решить проблему коррозии подложек и оборудования и может быть использована при обслуживании жидкокристаллических, OLED-дисплеев и других дисплеев для отображения информации.
• 2. Использование ГКВ в качестве катализатора.
• 3. Медицина, биомедицина (радиационные импланты, катетеры, ЭКГ системы, хирургические перчатки)
• 4. В области осаждения тонких пленок: при использовании гексакарбила вольфрама и аммиака в качестве прекурсора атомарный слой осаждается для успешного выращивания пленки нитрида вольфрама. (используется в качестве стабильного анода- материала для литий-ионных аккумуляторов);
• 5. Область применения в нефтехимии: ГКВ и анилиновые продукты позволяют синтезировать маслорастворимые катализаторы гидрирования, которые позволяют достичь более высокой степени конверсии при гидрировании при переработке некачественной тяжелой нефти и мазута и минимизировать скорость образования кокса.

• 1. Медицина
• 2. Атомная промышленность
• 3. Электроника
• 4. Микроэлектроника
• 5. Химическая промышленность
• 6. Аэрокосмическая промышленность
• 7. Нефтехимическая
• 8. химическая промышленность
• 9. изготовление ЭМИ защиты

• Массовая доля нелетучих веществ: 75-85%
• Внешний вид пленки: прозрачная, бесцветная, глянцевая, без пыли, подтеков и механических включений
• Время высыхания, в часах: не более 5 часов
• Относительная твердость пленки в единицах измерения: не менее 0,6
• Термостойкость пленки при температуре 200°C в часах: не менее 10 часов
• Массовая доля азота: не менее 20%

Отвердитель при производстве эмалей, может использоваться в качестве связующего, как компонент тонкослойных многофункциональных покрытий улучшает все механические и термические характеристики материалов.

• В качестве добавки при изготовлении керамических покрытий.
• Может использоваться в качестве отвердителя для силоксановых полимеров
• Сохраняет все свои свойства до температур -250, в составе многокомпонентных покрытий - до 350

• плотность 0,38г/см3
• Содержание вольфрама 35+/- 2%
• Температура плавления вольфрама 3400 °C
• Полые стеклянные микросферы размером менее 10 мкм, покрытые на поверхности вольфрамом, представляютсобой мелкий серый порошок
• Наносится в виде тонкослойных термостойких покрытий рабочая температура которых ограничена за счет использования базовых компонентов, таких как низкомолекулярный каучук
• За счет полых сфер из микро стекла обладает теплоизоляционными свойствами, за счет тонкослойного покрытия из вольфрама обладает защитой от электромагнитного, рентгеновского, лазерного излучения

Используется для получения тонкослойных покрытий в качестве носителя для введения вольфрама в требуемую среду.

• Производство средств теплозащиты, радиационной защиты
• Аэрокосмическая промышленность, оборонная промышленность, атомная промышленность.